रासायनिक रचना
मिश्र धातु C2000 रासायनिक रचना
हॅस्टेलॉय सी-2000 ची रासायनिक रचना खालील तक्त्यामध्ये दर्शविली आहे:
घटक | किमान % | कमाल % |
---|---|---|
Cr | 22.00 | २४.०० |
Mo | १५.०० | १७.०० |
Fe | - | ३.०० |
C | - | ०.०१ |
Si | - | ०.०८ |
Co | - | 2.00 |
Mn | - | ०.५० |
P | - | ०.०२५ |
S | - | ०.०१ |
Cu | 1.30 | 1.90 |
Al | - | ०.५० |
Ni | बाल |
मिश्रधातूचे तपशील
हॅस्टेलॉय C-2000 घनता, वितळण्याचे बिंदू, विस्ताराचे गुणांक आणि लवचिकतेचे मापांक खालील तक्त्यामध्ये दर्शविले आहे:
घनता | द्रवणांक | विस्ताराचे गुणांक | कडकपणाचे मॉड्यूलस | लवचिकतेचे मॉड्यूलस |
---|---|---|---|---|
८.५ ग्रॅम/सेमी³ | १३९९ °से | 12.4 μm/m °C (20 - 100 °C) | 79 kN/mm² | 206 kN/mm² |
0.307 lb/in³ | 2550 °F | ६.९ x १०-6मध्ये/मध्ये °F (70 - 212 °F) | 11458 ksi | 29878 ksi |
तयार भागांचे उष्णता उपचार
मिश्र धातु C2000 रासायनिक रचना
हॅस्टेलॉय सी-2000 चे विशिष्ट उष्णता उपचार:
AWI द्वारे पुरवल्याप्रमाणे स्थिती | प्रकार | तापमान | वेळ | थंड करणे |
---|---|---|---|---|
Annealed किंवा स्प्रिंग टेम्पर | तणावमुक्ती | 400 - 450 °C (750 - 840 °F) | २ तास | हवा |
गुणधर्म
हॅस्टेलॉय सी-2000 चे विशिष्ट यांत्रिक गुणधर्म:
ऍनील केलेले | ||
---|---|---|
अंदाजेताणासंबंधीचा शक्ती | <1000 N/mm² | <145 ksi |
अंदाजेलोड** आणि वातावरणावर अवलंबून ऑपरेटिंग तापमान | -200 ते +400 °C | -330 ते +750 °F |
स्प्रिंग टेम्पर | ||
---|---|---|
अंदाजेताणासंबंधीचा शक्ती | 1300 - 1600 N/mm² | 189 - 232 ksi |
अंदाजेलोड** आणि वातावरणावर अवलंबून ऑपरेटिंग तापमान | -200 ते +400 °C | -330 ते +750 °F |
पोस्ट वेळ: मार्च-14-2023